Envision オートフォーカスモジュール

フォーカス調整の為のAFSには三角測量法を用いたレーザーを使用しています。AFモジュールとしてはレンズの中を測距レーザーが通過するTTL（Through The Lens）という方式も存在しますが、特に半導体/ディスプレイ市場の検査対象に対して速度、精度ともに高いレベルで要求に応えるためには三角測量がベストです。

最新モデルの第三世代AFSではより正確な距離計測を実現しています。

下図は第二世代と第三世代で同一サンプルを評価した時のAFSの応答を示したものです。
図に示される山の位置がZ方向の位置を示しており、山の幅が細くシャープであるほど点での検出に近づいていることを意味しています。山の高さは検出スコアを示しており、 山が高ければ高いほど計測結果に信頼がおけることを意味しています。
上下で比較すると、第三世代では山の幅は狭くなり、山の高さは高くなっていることから、より高精度で物体検出ができていることがわかります。

Envisionでは、1um/pixelを切るような高分解能、もしくはラインレート400kHzを上回るような高速でオートフォーカスしながらスキャンする用途に合わせて、アクチュエーターを2つ使用するデュアルモーションAFAをラインナップしています。
これにより、シングルモーションAFAでは実現できなかった速度、精度でのオートフォーカススキャンを可能にしています。