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演習を新たに2つ追加
HALCONを実際に使用しながら、実践的なプログラミングの知識を効果的に習得できると大変好評な「演習!HDevelop」にも、新たに2つの演習が追加され、7つの演習がHALCONの学習をアシストします。以下では新たに追加された演習の内容について紹介します。
■ 縦・横スケーリング
〜大きさの異なるチップコンデンサの検出〜
前回のバージョンでは触れられていなかったパターンマッチングを詳細に解説します。この演習では縦横比の異なるチップコンデンサに対して、1つのモデルを用いて高速・高精度なパターンマッチングを行います。プログラミングの1行1行の解説に加えて、HALCONに搭載されているパターンマッチングのアルゴリズムに関しても詳細な解説をなされているため、パラメータの調整法などの実践的な部分まで理解することが可能です。
■ バリエーションモデル
〜許容範囲を持たせた良品・不良品検査〜
不良品検査などでよく用いられる画像差分の考え方を拡張したのがこのバリエーションモデルです。印刷の品質検査などを行う場合、通常の画像差分では判断が厳しくなりすぎてしまうことがあります。バリエーションモデルでは、ある程度のズレや輝度値の変化に対して良品としての許容範囲を持たせることでこのような問題を回避することが可能です。印刷検査やフレキシブル基盤の外観検査などを中心に幅広く実用されている機能の一つとなっています。
HALCON Trial Kit
2.0では、HALCONがマシンビジョンの分野においてどのように活用され、それらの処理がどのようにして実装されているのかを、更に詳細に記述しました。HALCONを体験・学習するためのツールとして、さらに深化したHALCON
Trial Kitを是非ご活用ください。
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